半導体リソグラフィ技術は、半導体集積回路の微細化、高集積化を牽引してきた中心的な技術です。しかもその技術は、パターンの原版となるマスクを作るマスク技術から、露光を行う露光装置技術、そして露光した潜像をレジストパターンとして、実際の加工につなげるレジストまで含む大きなシステム技術となっています。 本書では、光、電子線、X線、EUV光、その他のエネルギー線にわけて、それらのエネルギーレベル毎のリソグラフィ技術をわかりやすく紹介しています。さらにリソグラフィ技術を支えるマスク技術、レジスト技術、計測評価技術についても詳細に解説しています。 またリソグラフィ技術の進化が必ずしも半導体技術だけを中心にして進むとは限らない状況も生まれています。今後はメディアやMEMSなど、さまざまな応用分野に、リソグラフィ技術が応用されると思われます。そういう分野の方々への入門書としても活用できる一冊です。